第三届全国磁共振新技术应用专题研讨会在昆明胜利召开

2012-08-23 09:19
磁共振成像 2012年5期
关键词:放射学开幕式分会

第三届全国磁共振新技术应用专题研讨会,于2012年9月7-9日在云南省昆明市胜利召开,此次会议是由《磁共振成像》杂志社联合中华医学会放射学分会磁共振学组、云南医学会放射学分会、中国协和医科大学北京协和医学院、卫生部北京医院等单位共同主办的,本次会议专家阵容强大、讲座内容实用,受到与会代表的普遍欢迎和称赞。来自全国26个省市自治区的200余名代表参加了此次会议。

大会执行主席、北京医院陈敏教授主持了开幕式,中华医学会放射学分会副主任委员、《磁共振成像》杂志副主编、大会主席金征宇教授在开幕致辞中高度概括了会议的重要意义,号召大家认真学习、提高业务水平;他重点介绍了磁共振学组以及《磁共振成像》杂志的成立、创办背景,希望加强我国磁共振国际学术交流与合作,推动磁共振事业快速发展。最后,金教授代表戴建平主编感谢为大会作出贡献的编委、专家、赞助企业和与会代表。

国家自然科学基金委李恩中教授在开幕式上做了重要讲话,他指出2012年医学磁共振成像相关课题在基金委的资助率高于平均水平1倍,高场磁共振是医学影像学领域的研究热点,希望大家认真研究、探索相关课题,为保障人民群众健康贡献力量。本届大会共同主席、云南省放射学会主任委员赵卫教授和中华放射学分会磁共振学组组长卢光明教授在开幕式上发表了热情洋溢的讲话。

国际著名医学磁共振专家、GE医疗全球磁共振新产品开发总经理谭国升博士在开幕式发言中介绍了GE的新产品研发规划,感谢专家们对GE医疗的厚爱和支持,表示GE医疗将一如既往地对中国客户提供真诚、优质的服务。

大会邀请了李恩中教授、金征宇教授、卢光明教授、王振常教授、陈敏教授、徐文坚教授、郑卓肇教授、马林教授、汪登斌教授、欧阳汉教授、田伟教授、吴昆华教授、孙学进教授、薛华丹副教授等专家围绕高场强磁共振在全身各系统的临床应用进行了精彩讲座。特邀北京宣武医院韩璎副教授作了“美国SCI杂志医学论文写作与投稿策略”的专题讲座,特邀GE医疗张可先生就大家关注的1.5T光纤磁共振产品进行了详细介绍,本社贺光军同志就医学影像学论文写作与投稿策略向与会代表做了报告。代表们普遍认为通过此次会议学到了新知识、增长了见识,对今后工作有较大帮助。

世界500强跨国企业、著名医疗产品提供商——GE医疗以及GE磁共振应用学院作为协办单位对此次会议给予了大力支持,GE磁共振产品部总经理龚钊先生率队参会交流。

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